HJ/T84水質(zhì)無機陰離子的測定離子色譜法

HJ/T91地表水和污水監(jiān)測技術(shù)規(guī)范

HJ/T195水質(zhì)氨氮的測定氣相分子吸收光譜法

HJ/T199水質(zhì)總氮的測定氣相分子吸收光譜法

HJ/T200水質(zhì)硫化物的測定氣相分子吸收光譜法

HJ/T373固定污染源監(jiān)測質(zhì)量保證與質(zhì)量控制技術(shù)規(guī)范（試行）

HJ/T397固定源廢氣監(jiān)測技術(shù)規(guī)范

HJ/T399水質(zhì)化學(xué)需氧量的測定快速消解分光光度法

HJ484水質(zhì)氰化物的測定容量法和分光光度法

HJ485水質(zhì)銅的測定二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法

HJ486水質(zhì)銅的測定2，9-二甲基-1，10-菲啰啉分光光度法

HJ487水質(zhì)氟化物的測定茜素磺酸鋯目視比色法

HJ488水質(zhì)氟化物的測定氟試劑分光光度法

HJ489水質(zhì)銀的測定3,5-Br2-PADAP分光光度

HJ490水質(zhì)銀的測定鎘試劑2B分光光度法

HJ493水質(zhì)采樣樣品的保存和管理技術(shù)規(guī)定

HJ494水質(zhì)采樣技術(shù)指導(dǎo)

HJ495水質(zhì)采樣方案設(shè)計技術(shù)指導(dǎo)

HJ501水質(zhì)總有機碳的測定燃燒氧化-非分散紅外吸收法

HJ533環(huán)境空氣和廢氣氨的測定納氏試劑分光光度法

HJ534環(huán)境空氣氨的測定次氯酸鈉-水楊酸分光光度法

HJ535水質(zhì)氨氮的測定納氏試劑分光光度法

HJ536水質(zhì)氨氮的測定水楊酸分光光度法

HJ537水質(zhì)氨氮的測定蒸餾-中和滴定法

HJ538固定污染源廢氣鉛的測定火焰原子吸收分光光度法(暫行)

HJ544固定污染源廢氣硫酸霧的測定離子色譜法（暫行）

HJ547固定污染源廢氣氯氣的測定碘量法（暫行）

HJ548固定污染源廢氣氯化氫的測定硝酸銀容量法（暫行）

HJ549環(huán)境空氣和廢氣氯化氫的測定離子色譜法(暫行)

HJ583環(huán)境空氣苯系物的測定固體吸附/熱脫附-氣相色譜法

HJ584環(huán)境空氣苯系物的測定活性炭吸附/二硫化碳解吸-氣相色譜法

HJ629固定污染源廢氣二氧化硫的測定非分散紅外吸收法

HJ636水質(zhì)總氮的測定堿性過硫酸鉀消解紫外分光光度法

HJ637水質(zhì)石油類和動植物油的測定紅外分光光度法

HJ657空氣和廢氣顆粒物中鉛等金屬元素的測定電感耦合等離子體質(zhì)譜法

HJ659水質(zhì)氰化物等的測定真空檢測管-電子比色法

HJ644環(huán)境空氣揮發(fā)性有機物的測定吸附管采樣－熱脫附/氣相色譜－質(zhì)譜法

HJ665水質(zhì)氨氮的測定連續(xù)流動-水楊酸分光光度法

HJ666水質(zhì)氨氮的測定流動注射-水楊酸分光光度法

HJ667水質(zhì)總氮的測定連續(xù)流動-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ668水質(zhì)總氮的測定流動注射-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ670水質(zhì)磷酸鹽和總磷的測定連續(xù)流動-鉬酸銨分光光度法

HJ671水質(zhì)總磷的測定流動注射-鉬酸銨分光光度法

HJ685固定污染源廢氣鉛的測定火焰原子吸收分光光度法

HJ692固定污染源廢氣氮氧化物的測定非分散紅外吸收法

HJ693固定污染源廢氣氮氧化物的測定定電位電解法

HJ694水質(zhì)汞、砷、硒、鉍和銻的測定原子熒光法

HJ700水質(zhì)65種元素的測定電感耦合等離子體質(zhì)譜法

HJ732固定污染源廢氣揮發(fā)性有機物的采樣氣袋法

HJ734固定污染源VOCs的測定固相吸附-熱脫附-氣相色譜-質(zhì)譜法

HJ801環(huán)境空氣和廢氣酰胺類化合物的測定液相色譜法

HJ819排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南總則

AQ/T4274局部排風(fēng)設(shè)施控制風(fēng)速檢測與評估技術(shù)規(guī)范

《污染源自動監(jiān)控管理辦法》（國家環(huán)境保護總局令第28號）

《環(huán)境監(jiān)測管理辦法》（國家環(huán)境保護總局令第39號）

3術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準。

3.1電子專用材料specialelectronicmaterials

在半導(dǎo)體集成電路、各種電子元器件（包括有源及無源元器件、鋁電解電容器、激光器件、光通訊器件、發(fā)光二極管器件、液晶顯示器件等電子基礎(chǔ)產(chǎn)品）制造中所采用的特定材料。本標(biāo)準中電子專用材料涵蓋的產(chǎn)品范圍包括半導(dǎo)體材料、覆銅板、電子銅箔、鋁電解電容器電極箔、光電子材料、藍寶石基片、壓電晶體材料、電子專用精細化工與高分子材料，但不包括真空材料、磁性材料、焊接材料和陶瓷材料等。具體產(chǎn)品范圍見附錄A。

3.2電子元件electricalunit

電子電路中具有某種獨立功能的單元，可對電路中電壓和電流進行控制、變換和傳輸?shù)?。一般包括?/p>

電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體元器件、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控

制繼電器、微特電機與組件、電聲器件等產(chǎn)品。

3.3印制電路板printedcircuitboard（PCB）

在絕緣基材上，按預(yù)定設(shè)計形成印制元件、印制線路或兩者結(jié)合的導(dǎo)電圖形的印制電路或印制線路成品板。印制電路板包括剛性板與撓性板，單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板，以及剛撓結(jié)合印制電路板和高密度互連印制電路板等。

3.4半導(dǎo)體器件semiconductordevice

利用半導(dǎo)體材料的特殊電特性制造，以實現(xiàn)特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類產(chǎn)品。

3.5光電子器件photoelectroncomponent

利用半導(dǎo)體光-電子（或電-光子）轉(zhuǎn)換效應(yīng)制成的各種功能器件。如發(fā)光二極管（LED）；半導(dǎo)體光電器件中的光電轉(zhuǎn)換器、光電探測器等；激光器件中的氣體激光器件、半導(dǎo)體激光器件、固體激光器件、靜電感應(yīng)器件等；光通信電路及其他器件；半導(dǎo)體照明器件等。

3.6顯示器件displaydevice

基于電子手段呈現(xiàn)信息供視覺感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件（TN/STN-LCD、TFT-LCD）、低溫多晶硅薄膜晶體管液晶顯示器件（LTPS-TFT-LCD）、有機發(fā)光二極管顯示器件（OLED）、真空熒光顯示器件（VFD）、場發(fā)射顯示器件（FED）、等離子顯示器件（PDP）、曲面顯示器件以及柔性顯示器件等。

3.7電子終端產(chǎn)品electronterminalsproduct

以采用印制電路板（PCB）組裝工藝技術(shù)為基礎(chǔ)裝配的具有獨立應(yīng)用功能的電子信息產(chǎn)品或組件。如通信設(shè)備、雷達設(shè)備、廣播電視設(shè)備、電子計算機、視聽設(shè)備、電子測量儀器等。

3.8現(xiàn)有企業(yè)existingfacility

本標(biāo)準實施之日前已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評價文件已通過審批的電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施。

3.9新建企業(yè)newfacility

本標(biāo)準實施之日起環(huán)境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴建電子工業(yè)建設(shè)項目。

3.10直接排放directdisge

排污單位直接向環(huán)境水體排放水污染物的行為。

3.11間接排放indirectdisge

排污單位向公共污水處理系統(tǒng)排放水污染物的行為。

3.12公共污水處理系統(tǒng)publicwastewatertreatmentsystem

通過納污管道等方式收集廢水，為兩家及兩家以上排污單位提供廢水處理服務(wù)并且排水能夠達到相關(guān)排放標(biāo)準要求的企業(yè)或機構(gòu)，包括各種規(guī)模和類型的城鎮(zhèn)污水處理廠、區(qū)域（包括各類工業(yè)園區(qū)、開發(fā)區(qū)、工業(yè)聚集地等）廢水處理廠等，其廢水處理程度應(yīng)達到二級或二級以上。

3.13排水量effluentvolume

生產(chǎn)設(shè)施或企業(yè)向企業(yè)法定邊界以外排放的廢水的量，包括與生產(chǎn)有直接或間接關(guān)系的各種外排廢水（含廠區(qū)生活污水、冷卻廢水、廠區(qū)鍋爐和電站排水等）。

3.14單位產(chǎn)品基準排水量benchmarkeffluentvolumeperunitproduct

用于核定水污染物排放濃度而規(guī)定的生產(chǎn)單位電子產(chǎn)品的廢水排放量上限值。

3.15揮發(fā)性有機物volatileorganiccompounds

參與大氣光化學(xué)反應(yīng)的有機化合物，或者根據(jù)規(guī)定的方法測量或核算確定的有機化合物。

根據(jù)行業(yè)特征和環(huán)境管理需求，可選擇對主要VOCs物種進行定量加和的方法測量總有機化合物（以TVOC表示），或者選用按基準物質(zhì)標(biāo)定，檢測器對混合進樣中VOCs綜合響應(yīng)的方法測量非甲烷有機化合物（以NMHC表示，以碳計）。

3.16標(biāo)準狀態(tài)standardcondition

溫度為273.15K、壓力為101325Pa時的狀態(tài)。本標(biāo)準規(guī)定的大氣污染物排放濃度限值均以標(biāo)準狀態(tài)下的干氣體為基準。

3.17企業(yè)邊界enterpriseboundary

電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的法定邊界。若無法定邊界，則指企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的實際占地邊界。

3.18排氣筒高度stackheight

自排氣筒（或其主體建筑構(gòu)造）所在的地平面至排氣筒出口計的高度，單位為m。

4水污染物排放控制要求

4.1現(xiàn)有企業(yè)2021年1月1日前仍執(zhí)行現(xiàn)行標(biāo)準，自2021年1月1日起執(zhí)行表1規(guī)定的水污染物排放限值。

4.2新建企業(yè)自2019年1月1日起執(zhí)行表1規(guī)定的水污染物排放限值。

4.3根據(jù)環(huán)境保護工作的要求，在國土開發(fā)密度已經(jīng)較高、環(huán)境承載能力開始減弱，或環(huán)境容量較小、生態(tài)環(huán)境脆弱，容易發(fā)生嚴重環(huán)境污染問題而需要采取特別保護措施的地區(qū)，應(yīng)嚴格控制企業(yè)的污染物排放行為，在上述地區(qū)的電子工業(yè)企業(yè)執(zhí)行表2規(guī)定的水污染物特別排放限值。

執(zhí)行水污染物特別排放限值的地域范圍、時間，由國務(wù)院環(huán)境保護行政主管部門或省級人民政府規(guī)定。

4.4新建企業(yè)自2019年1月1日起，現(xiàn)有企業(yè)自2021年1月1日起，執(zhí)行表3規(guī)定的單位產(chǎn)品基準排水量。

編輯：程彩云